特點(diǎn)：
1．石英坩堝可在1650度以下使用，分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，是發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。
2、不能和HF接觸，高溫時(shí)，極易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽反應(yīng)。
3．石英坩堝適于用K2S2O7，KHSO4作熔劑熔融樣品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔劑處理樣品。
4．石英質(zhì)脆，易破，使用時(shí)要注意。
5．除HF外，普通稀無(wú)機(jī)酸可用作清洗液。
注意事項(xiàng)：
1、用后放置干燥處，切忌雨水侵入；使用前須緩慢烘烤到500攝氏度方可使用。
2、應(yīng)根據(jù)坩堝容量加料，忌擠得太緊，以免金屬發(fā)生熱膨脹脹裂坩堝。
3、取出金屬熔液時(shí)，最好用勺子舀出，盡量少用卡鉗，若用卡鉗等工具應(yīng)與坩堝形狀相符，避免局部受力過(guò)大而縮短使用壽命。
4、坩堝使用壽命與用法有關(guān)，應(yīng)避免強(qiáng)氧化火焰直接噴射到坩堝上，而使坩堝原料氧化短命。
特點(diǎn)：
1．石英坩堝可在1650度以下使用，分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，是發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。
2、不能和HF接觸，高溫時(shí)，極易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽反應(yīng)。
3．石英坩堝適于用K2S2O7，KHSO4作熔劑熔融樣品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔劑處理樣品。
4．石英質(zhì)脆，易破，使用時(shí)要注意。
5．除HF外，普通稀無(wú)機(jī)酸可用作清洗液。
注意事項(xiàng)：
1、用后放置干燥處，切忌雨水侵入；使用前須緩慢烘烤到500攝氏度方可使用。
2、應(yīng)根據(jù)坩堝容量加料，忌擠得太緊，以免金屬發(fā)生熱膨脹脹裂坩堝。
3、取出金屬熔液時(shí)，最好用勺子舀出，盡量少用卡鉗，若用卡鉗等工具應(yīng)與坩堝形狀相符，避免局部受力過(guò)大而縮短使用壽命。
4、坩堝使用壽命與用法有關(guān)，應(yīng)避免強(qiáng)氧化火焰直接噴射到坩堝上，而使坩堝原料氧化短命。
豫公網(wǎng)安備 41032302000213號(hào)
